水處理設備專賣hdtwgkOl 由于紫外線消毒器具有高效:光譜性高:無二次污染;運行安全可靠:運行維護費用低;對礦泉水不可能產生溴酸鹽的優點廣泛作為礦泉水消毒設備。當水中的細菌、病毒等受到一定劑量的紫外UV-C光(波長253.7mm)照射后。其細胞DNA

水處理設備專賣

絮凝過濾只能使用在進水濁度小于70度的原水中,這種進水一般多為自來水或地下水,對于高濁度水源(如地表水,廢水等),需要跟其他水處理工藝聯合處理,才能達到反滲透系統的進水要求。正確選擇水體Z適合的絮凝劑品種及其投加量,通過一定的實驗來確定。過量的投加絮凝劑也會造成膜元件污染,尤其是使用二價鐵鹽和鋁鹽時,在使用這兩種絮凝劑時需定時檢測出水的Fe2+“和Al3+離子濃度,防止膜元件的膠體污染。使用離子型聚合物絮凝劑時,也要防止陽離子型聚合物對普通帶負電的膜元件和陰離子型聚合物對帶正電膜元件的影響。

水處理設備專賣

當難溶鹽類在膜元件內不斷被濃縮且超過其溶解度極限時,它們就會在反滲透膜膜面上發生結垢,如果反滲透系統采用50%回收操作時,其濃水中的鹽度會增加到進水濃度的兩倍,回收率越高,產生結垢的風險性就越大。在這種情況下,采取考慮周全的結垢控制措施尤為重要。為了防止膜面上發生無機鹽結垢,在預處理過程中應采取如下措施

石灰一純堿處理也可以降低二氧化硅的濃度,當加入鋁酸鈉和三氯化鐵時,將會形成CaCO3以及硅酸、氧化鋁和鐵的復合物。通過加入石灰和多孔氧化鎂的混合物,采用60-70c熱石灰硅酸脫除工藝,可將硅酸濃度降低到1mg/L以下。

給水濁度及污染指數SD可以反映給水的污染程度,據此確定反滲透預處理工藝的復雜程度,較高的給水濁度(0.5NTU)及SD1值(3)會降低反滲透系統的產水通量,增加反滲透系統的清洗頻度并會降低膜元件的使用壽命。

統?？刂品譃樯衔徊僮髡?下位控制站兩級。上位操作站采用工控機作為人機界面和監控站,上位操作站負責監視整個系統工藝流程動態顯示,系統內每一個模擬量和數字量顯示,異常情況的處理,并確認報警顯示,操作指導建立,趨勢畫面,并獲得趨勢信息,打印報表,控制驅動裝置,自動和手動控制方式的選擇調整,過程設定值和偏置等,用于程序開發、系統診斷、控制系統組態下位控制站采用可編程控制器(PLC)進行工藝控制,并輔以現場就地操作箱的程序控制系統完成水處理系統的控制。下位控制站的設置是根據優化控制,合理布局的原則視具體情況而定的,同時為方便系統在實施階段或運行階段進行必須的調整及擴展,控制站考慮了一定的余量。下站控制站由PLC及擴展模塊組成?？删幊炭刂破?PLC)開關量輸入輸出采用中間繼電器隔離。系統由可編程控制器(PLC)控制系統整體運行并協調各單元設備的切換。負責與上位操作站的通訊。