延邊朝鮮族自治州正規桶裝水設備廠家hdtwgkOl從學術角度講,高純水又名超純水,是指化學純度極高的水,其主要應用在生物、化學化工冶金、宇航、電力等領域,但其對水質純度要求相當高,所以一般應用Z普遍的還是電子工業例如電力系統所用的高純水,要求各雜質含量低達到“微克/升”級。在純水的制作中,水質標準所規定的各項指標應該根據電子微電子)元器件(或材料)的生產工藝面定(如普遍認為造成電路性能硫壞的顆粒物質的尺寸為其線寬的5-1/10),但由于微電子技術的復雜性和影響產品質量的因系繁多,至今尚無一份由工藝試驗得到的適用于某種電路生產的完整的水質標準。不過近年來電子級水標準也在不斷地修訂,而且高純水分析領域的許多突破和發展,新的儀器和新分析方法的不斷應用都為制水工藝的發展創造了條件。

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當設備運行環境適于微生物生長，或者進水中存在較多的細菌和藻類的時候，EDI模塊和系統也會發生微生物污堵。可以采用方案3、4中的方法用高PH鹽水進行清洗。如果微生物情形比較嚴重時，可以采用方案5進行清洗。如果同時伴有無機物污堵，可以按照方案6加入酸洗步驟。

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3.5進再生液（該方法是采用分步再生方式）首先進堿再生液，流量控制在5m/h，濃度控制在4%，通過中排閥控制好液位，當堿計量箱處于低液位時停堿泵，關閉閥門，浸泡半小時;從進水閥進水，通過中排閥控制好液位，以低流量沖洗陰樹脂，沖洗至堿度降至0.5mmol/L以下為止（陰樹脂沖洗水耗3-6m3/m3）。

不要過緊地旋轉螺紋。開始可纏上一半螺紋，留出線頭，再用特氟龍帶接著沿螺紋方向繼續纏繞。螺紋可重疊一半的特氟隆帶的寬度，將外螺紋接頭擰進模塊上的螺孔中，用手上緊，注意避免擰得過緊，導致支管或螺紋損壞。

凈水顆粒度大于等于5μm時造成進水流道堵塞，引起模塊內部水流分布不均勻，從而導致模塊整體性能降低。如果EDI塊的進水不是直接由RO產水端進入EDI模塊，而是通過RO產水箱經過增壓泵供水，建議在進入EDI模塊前端增設保安過濾器。在組裝EDI設備時，所有的鏈接管道系統應沖洗干凈以預防管道內的顆粒雜質進入模塊。

如果EDI進水含有較多的溶質且超出設計值或者回收率超過設計值時，將導致濃水室和陰極室的結垢，生成鹽類物質析出沉淀，通常結垢的類型為鈣、鎂離子生成的碳酸鹽。即便這類物質的濃度很小，接觸時間也很短，但隨著運行時間的累加，仍有發生結垢的可能，這種硬度結垢很容易通過酸洗去除。按照方案1中的方法，使用低PH溶液在系統內部循環清洗，可以去除濃水室和陰極室的結垢，當進水中的鐵和錳含量高，或者高TDS的水以外進入到EDI模塊時，也會使淡水室的離子交換樹脂或者濃水室形成無機物污堵。可以采用方案2進行清洗。