邯鄲正規桶裝純凈水設備hdtwgkOl從學術角度講,高純水又名超純水,是指化學純度極高的水,其主要應用在生物、化學化工冶金、宇航、電力等領域,但其對水質純度要求相當高,所以一般應用Z普遍的還是電子工業例如電力系統所用的高純水,要求各雜質含量低達到“微克/升”級。在純水的制作中,水質標準所規定的各項指標應該根據電子微電子)元器件(或材料)的生產工藝面定(如普遍認為造成電路性能硫壞的顆粒物質的尺寸為其線寬的5-1/10),但由于微電子技術的復雜性和影響產品質量的因系繁多,至今尚無一份由工藝試驗得到的適用于某種電路生產的完整的水質標準。不過近年來電子級水標準也在不斷地修訂,而且高純水分析領域的許多突破和發展,新的儀器和新分析方法的不斷應用都為制水工藝的發展創造了條件。

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然后進酸再生液，流量控制在3m/h，濃度控制在3.3%，通過中排閥控制好液位，當酸計量箱處于低液位時停酸泵，關閉閥門，浸泡半小時；從反洗閥進水，通過中排閥控制好液位，以低流量沖洗陽樹脂，沖洗至酸度降至0.5mmol/L以下為止（陽樹脂沖洗水耗2.5-5m3/m3）

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雖然EDI模塊的進水條件在很大程度上減少了模塊內部阻塞的機會，但是隨著設備運行時間的延展，模塊內部水道還是有可能產生阻塞，這主要是進水中含有較多的溶質，在濃水室中形成了鹽的沉淀。如果進水中含有大量的鈣、鎂離子、CO2和較高的PH值，將會加快沉淀的速度，遇到這種情況，我們可以通過化學清洗的方法對EDI模塊進行清洗，使之恢復到原來的技術特性，通常判斷EDI模塊被污染堵塞可以從以下幾個方面進行評估判定：

如果EDI進水含有較多的溶質且超出設計值或者回收率超過設計值時，將導致濃水室和陰極室的結垢，生成鹽類物質析出沉淀，通常結垢的類型為鈣、鎂離子生成的碳酸鹽。即便這類物質的濃度很小，接觸時間也很短，但隨著運行時間的累加，仍有發生結垢的可能，這種硬度結垢很容易通過酸洗去除。按照方案1中的方法，使用低PH溶液在系統內部循環清洗，可以去除濃水室和陰極室的結垢，當進水中的鐵和錳含量高，或者高TDS的水以外進入到EDI模塊時，也會使淡水室的離子交換樹脂或者濃水室形成無機物污堵?？梢圆捎梅桨?進行清洗。

樹脂在未裝進交換器之前，首先應進行篩選，再用8-10%的NaCI溶液浸泡20小時，放掉食鹽水，用水沖洗樹脂，沖洗至出水不呈黃色為止?；蛴?%的HCI溶液浸泡2-4小時，放掉酸液后，用水沖洗樹脂至排水接近中性為止。將樹脂裝入設備到規定高度，樹脂裝好后進行一次反沖洗。

凈水顆粒度大于等于5μm時造成進水流道堵塞，引起模塊內部水流分布不均勻，從而導致模塊整體性能降低。如果EDI塊的進水不是直接由RO產水端進入EDI模塊，而是通過RO產水箱經過增壓泵供水，建議在進入EDI模塊前端增設保安過濾器。在組裝EDI設備時，所有的鏈接管道系統應沖洗干凈以預防管道內的顆粒雜質進入模塊。